Granit jest popularnym materiałem stosowanym w przemyśle półprzewodnikowym, szczególnie w przypadku produkcji wrażliwego sprzętu wykorzystywanego w produkcji układów scalonych półprzewodnikowych. Granit jest znany ze swoich wyjątkowych właściwości, takich jak wysoka stabilność, sztywność i niski współczynnik rozszerzalności cieplnej. Wymaga jednak również specjalnej obróbki powierzchni, aby nadawał się do stosowania w produkcji sprzętu półprzewodnikowego.
Proces obróbki powierzchni granitu obejmuje polerowanie i powlekanie. Najpierw granitowa podstawa przechodzi proces polerowania, aby zapewnić jej gładkość i brak jakichkolwiek szorstkich lub porowatych obszarów. Proces ten pomaga zapobiegać powstawaniu cząstek, które mogłyby potencjalnie zanieczyścić wrażliwe układy komputerowe. Po wypolerowaniu granit jest powlekany materiałem odpornym na chemikalia i korozję.
Proces powlekania jest kluczowy dla zapewnienia, że zanieczyszczenia nie zostaną przeniesione z powierzchni granitu na wytwarzane wióry. Proces ten obejmuje natryskiwanie ochronnej warstwy materiału na polerowaną powierzchnię granitu. Powłoka zapewnia barierę między powierzchnią granitu a wszelkimi chemikaliami lub innymi zanieczyszczeniami, które mogą się z nią zetknąć.
Innym krytycznym aspektem obróbki powierzchni granitowych jest regularna konserwacja. Podstawa granitowa musi być regularnie czyszczona, aby zapobiec gromadzeniu się kurzu, brudu lub innych zanieczyszczeń. Jeśli nie zostanie oczyszczona, zanieczyszczenia mogą porysować powierzchnię lub, co gorsza, wylądować na sprzęcie półprzewodnikowym, wpływając na jego wydajność.
Podsumowując, granit jest niezbędnym materiałem w przemyśle półprzewodnikowym, szczególnie w produkcji sprzętu półprzewodnikowego. Wymaga jednak specjalnej obróbki powierzchni, która obejmuje polerowanie i powlekanie oraz regularną konserwację w celu zapobiegania zanieczyszczeniom. Po odpowiedniej obróbce granit stanowi idealną bazę do produkcji wysokiej jakości układów scalonych półprzewodnikowych, które są wolne od zanieczyszczeń lub wad.
Czas publikacji: 25-03-2024